Grafite de alta-puresa pressà isostaticamente

Grafite de alta-puresa pressà isostaticamente
Detaji:
Ła grafite de alta-puresa isostatica ła ga un contenuto de carbonio pi grando o conpagno al 99,99%, na strutura densa, na condutività termica/ełètrica e na resistensa al całor, ideałe pa semicondutori e forni a tenperadura alta.
MOQ: 1 saco/50 kg
Materiałe: grafite naturałe
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Descrission
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Nucleo del prodoto

El grafite de alta-puresa pressà isostaticamente el vien fabricà co Cold Isostatic Pressing (CIP) pa vér na densificasion uniforme 3D soto na presion ultra-alta (140-200 MPa). Fato de coke de petrołio purificà a pì de 2500 gradi, el ga na densità quasi-teorica e na isotropia ecełente, garantindo na prestasion stabiłe in diverse aplicasión.

Parametri tecnisi

Parametro

Vałor ciave

Densità

1,80-1,92 g/cm3

Contegnùo de sénare

Manco o conpagno a 100 ppm

Raporto de anisotropia

1.0–1.05

Coefisente de espansion termica (CTE)

4,2-5,0 × 10-6/K (RT-400 gradi)

Purezza

C Pi grando o conpagno al 99,9%

Condutività termica

110–130 W/(m·K)

Forsa a flesion

55-85 MPa

I prodoti i suporta ła personalixasion personałixà.

Karateristiche fondamentałi

  • Ultra-alta puresa: Ultra-basse impurità de sénare/metałio (Fe, Ca, Na), ICP-MS verificà, canpi sensibiłi a l’impuresa-adata.
  • Densità ecełente: alta densità de masa, basa porosità, aumenta ła condutività termica e ła capasità mecanica.
  • Isotropia: difarense minime in espansion termica/rexistensa a flesion tra łe diresión.
  • Rexistensa al całor estrema: stabiłe a alte tenperadure in atmosfere inerte (un rivestimento necesario in anbienti ossidanti sora tenperadure specifiche).
  • Rexistensa ai scossi termici: ła resiste a canbiamenti de tenperadura vełosi sensa creparse.
  • Lavorabiłità de precision: el grafite de alta-puresa pressà isostaticamente el ga tołeranse strete e el pol esar elaborà in parti conplese (dischi de turbina, crogioli).

Aplicasion ciave

  • Semiconduttore: conponenti termici del forno de silicio monocristałin/portatori de cialde (rexistensa a tenperadura alta, impurità ultra-basse).
  • Fotovoltaico: crogioli/riscaldatori a lingote de polisiłicio (resiste a l’eroxion deła fusion de silicio).
  • Energia nucleare: rifletori de neutroni de reatore rafredai a gas-a tenperadura alta (el xe rispetà łe carateristiche de grado nucleare).
  • Aerospasial: inserti deła gola de l’ugello de razzi/pinne de misiłi (resiste a l’ablasion a tenperadura estrema alta-).
  • Metalurgia de alta gama: crogioli de fusion in lega de titanio (riutilixàbiłi, sensa perdite).
  • Equipagiamento industriałe: eletrodi EDM/parti ciave del forno a alta-tenperadura.

Certificasion e personalixasion

 

El grafite pressà isostaticamente alta-puresa el rispeta i standard SEMI F76 (semicondutor), ISO 8005 (nucleare), EN 10298/ASME BPVC (sicuresa) e RoHS 3.0 (anbientałe). I servisi personalixài i include: silicidasion (pa aumentar ła resistensa a l’osidasion), impregnasion secondaria (pa aumentar ła densità) e otimixasion deła strutura ultrafina (pa aumentar ła resistensa).

sostatically Pressed High-Purity Graphite supplier
Isostatically Pressed High-Purity Graphite factory

Porte: grafite de alta-puresa isostatica, produtori de grafite de alta-puresa isostatica

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